近日，南京国盛电子有限公司主持完成的国家标准《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》，荣获2019年度全国半导体材料标准化分技术委员会优秀技术标准二等奖。此标准是国盛公司依据国内ICP-MS测试技术的实际运行情况，结合国际同类测试技术发展趋势，参考国际通用标准，历经2年制定而成。该标准详细描述了半导体级硅片表面痕量金属的测量过程，确定了测试范围、所用试剂与设备和测试环境以及数据处理与分析评价等技术内容，并细化了硅片表面金属杂质的收集方法、扫描溶液的采集过程及其优化方法等操作过程，确保了测量技术的可靠性与重复性。

　　本标准的制定填补了国内半导体材料测试技术领域的标准空白，将有利于规范和统一国内半导体级硅片表面金属杂质测试操作流程，促进国内半导体级硅片的质量控制与品质提升，提高国内半导体硅材料产业的国际竞争力和影响力。